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二硫化鉬納米片功函數(shù)相關(guān)研究獲進展

作者:新聞中心 來源:中國科學報 發(fā)布時間:2013-08-28 瀏覽:
     中國儲能網(wǎng)訊:哈爾濱工業(yè)大學的研究人員在二維二硫化鉬(MoS2)納米片功函數(shù)及載流子濃度調(diào)控研究方面取得進展,相關(guān)論文日前在《美國化學會·納米》(ACS Nano)刊發(fā)。
 
    據(jù)介紹,與石墨烯相比,二維MoS2納米片具有合適的帶隙,適用于光檢測等功能器件。金屬電極與MoS2納米片之間的電接觸行為對器件性能的影響很大,研究者需要了解接觸處的能帶排列,因此對MoS2納米片功函數(shù)的表征及調(diào)控成為最近的研究熱點。
 
    研究人員通過引入具有偶極動量的自組裝單分子層,成功對MoS2納米片載流子及功函數(shù)進行了調(diào)控,其自組裝單層能夠使得單層MoS2納米片的場效應(yīng)晶體管極性發(fā)生變化。通過調(diào)節(jié)MoS2納米片的功函數(shù)來調(diào)控MoS2納米片功能器件中金屬電極與MoS2接觸處的接觸勢壘,能夠指導基于電接觸的功能器件的設(shè)計及制備,用于氣敏及光響應(yīng)器件等領(lǐng)域。
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