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晶硅太陽(yáng)能電池表面鈍化技術(shù)獲新進(jìn)展

作者: 來(lái)源:中國(guó)科學(xué)報(bào) 發(fā)布時(shí)間:2012-07-07 瀏覽:次
     中國(guó)儲(chǔ)能網(wǎng)訊:原子層沉積技術(shù)是一種有序的氣相薄膜生長(zhǎng)技術(shù),具有良好的保形性、均勻性和高的臺(tái)階覆蓋率。通過(guò)原子層沉積氧化鋁薄膜對(duì)硅片表面進(jìn)行鈍化,可以大幅度提高太陽(yáng)能電池效率,被業(yè)界普遍認(rèn)為是未來(lái)新一代晶硅太陽(yáng)能電池技術(shù)發(fā)展的重要趨勢(shì)。
 
    近日,在浙江中科院應(yīng)用技術(shù)研究院嘉興微電子設(shè)備與儀器工程中心,由夏洋帶領(lǐng)的微電子儀器與設(shè)備創(chuàng)新團(tuán)隊(duì),在晶硅太陽(yáng)能電池表面鈍化技術(shù)的研究中取得新進(jìn)展。
 
    該創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)利用自主設(shè)計(jì)生產(chǎn)的KMT-200A型原子層沉積設(shè)備,在P型單晶硅片上生長(zhǎng)氧化鋁鈍化層,退火后平均少子壽命可達(dá)1ms,有效減少了硅片表面復(fù)合,具有優(yōu)秀的表面鈍化效果。
 
    在半導(dǎo)體材料中,某種載流子占少數(shù),導(dǎo)電中起到次要作用,則稱它為少子。單晶硅中摻硼為P型,摻硼越多,則能置換硅產(chǎn)生的空穴也越多,導(dǎo)電能力越強(qiáng),電阻率就越低。
 
    目前,微電子儀器與設(shè)備創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)以技術(shù)優(yōu)勢(shì),吸引美國(guó)硅谷研究團(tuán)隊(duì)來(lái)嘉興開(kāi)展原子層技術(shù)合作,加快了國(guó)內(nèi)開(kāi)發(fā)原子層沉積設(shè)備的研制,推進(jìn)該項(xiàng)目在嘉興市的產(chǎn)業(yè)化。
 
    嘉興中心推出了一系列的擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)和創(chuàng)新的原子層沉積設(shè)備產(chǎn)品,包括熱型設(shè)備、等離子體增強(qiáng)型設(shè)備和適于光伏產(chǎn)業(yè)應(yīng)用的批量型設(shè)備,實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)原子層沉積設(shè)備在光伏產(chǎn)業(yè)首創(chuàng)應(yīng)用的新局面,為下一代高效晶硅太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了國(guó)產(chǎn)化設(shè)備支撐。
 
 
 
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